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臺(tái)積電 3nm 制程工藝月產(chǎn)能逐步提升，下月有望達(dá)到 4.5 萬(wàn)片晶圓

臺(tái)積電 3nm 制程工藝月產(chǎn)能逐步提升，下月有望達(dá)到 4.5 萬(wàn)片晶圓

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蘋(píng)果預(yù)訂臺(tái)積電 3nm 制程工藝量產(chǎn)初期的全部產(chǎn)能，將在下月達(dá)到 4.5 萬(wàn)片晶圓。

2 月 25 日消息，據(jù)外媒報(bào)道，在三星電子采用全環(huán)繞柵極晶體管架構(gòu)的 3nm 制程工藝量產(chǎn)之后，臺(tái)積電仍采用鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管的 3nm 制程工藝，也在去年的 12 月 29 日正式開(kāi)始商業(yè)化生產(chǎn)。

臺(tái)積電 3nm 制程工藝月產(chǎn)能逐步提升，下月有望達(dá)到 4.5 萬(wàn)片晶圓.png

從外媒最新的報(bào)道來(lái)看，同臺(tái)積電此前的工藝一樣，去年 12 月份量產(chǎn)的 3nm 制程工藝，產(chǎn)能也在逐步提升，月產(chǎn)能在下月將達(dá)到 4.5 萬(wàn)片晶圓。

報(bào)道稱(chēng)，蘋(píng)果預(yù)訂臺(tái)積電 3nm 制程工藝量產(chǎn)初期的全部產(chǎn)能，提及臺(tái)積電這一工藝的月產(chǎn)能量時(shí)表示，將在下月達(dá)到 4.5 萬(wàn)片晶圓。

不過(guò)，即便臺(tái)積電 3nm 制程工藝的產(chǎn)能在不斷提升，他們這一制程工藝今年的產(chǎn)能依舊會(huì)緊張。

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臺(tái)積電正考慮在日本建第二芯片工廠(chǎng)，預(yù)計(jì)投資超一萬(wàn)億日元返回
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